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微型PECVD系統本設備主要針對實驗中試石墨烯生長和制備使用，同時該設備可以用于碳納米管的生長?？芍苽涑龈哔|量的透明導電膜,用作手機觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領域。

多通道管式集成設備BTF-1200C-6D為我司研發的新一代產品，將6臺管式氣氛爐集成與一體，且又能獨立控制，可同時進行平行試驗;頂上二組管式爐可半蓋開啟，可透過石英管直接觀察樣品燒結時的狀態;整機液...

本款有機小分子提純（升華儀）主要用途是在真空條件下對有機混合物進行升華達到純化的目的（即蒸發后重結晶），主要處理的對象為具有升華性的有機材料，或具有流動相特性混合物如有機聲光產品（如有機發光顯示器用的...

ZMF-1700C-H2高溫氣氛箱式爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以鉬 絲作為加熱元件，爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口，以保證儀器工作時的密封性能。...

實驗室高溫箱式爐采用優質U型硅棒加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。

低真空CVD石墨烯生長系統是由1200度開啟式管式爐、精密的質量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。

迷你型CVD系統控溫方式：模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能

BTF-1700C-CVD1700度高溫CVD系統 （高真空 低真空可選）是由1700度管式爐、三路質量流量計系統以及國產高真空系統（或選配低真空系統）所組成。

此款立式管式爐法蘭可上下多檔移動，法蘭上的特殊設計方便掛燒樣件，實現真空或氣氛下的淬火實驗，廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。

雙溫區管式爐廣泛應用于CVD實驗，熒光粉制備，真空或氣氛燒結，基片鍍膜等實驗環境。技術成熟，質量可靠，溫場均勻，結構合理。

1750℃ 高溫硅鉬棒加熱管式爐的爐體采用雙層風冷機構，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于60度。